标准型真空腔体等离子设备 | VacuTEC 2020

Tantec VacuTEC 2020真空等离子处理是适合大一些的不同材质的注塑产品的处理。该设备快速的处理速度为下游工艺的涂层、胶水、印刷、喷涂提供了最佳的产品表面能与很好的结合性。

该设备的真空腔体与智能集成等离子电极组合在0.1-3Mbar的状态下实现了等离子体的精准放电，同时处理时间也很短，一般状态下针对不同的材料有不同的组合方案，处理时间一般控制在20-120秒左右。

VacuTEC2020真空等离子处理设备具有操作简单、生产加工速度快等优点。处理过程中可以加入像氩和氧气等辅助气体来提升表面处理效果，但在大多数情况下，高功率的等离子体放电一般不需要气体来辅助参与。

VacuTEC2020采用先进的Tantec主机HV-X系列作为电源，特别设计的高频高压的变压器为等离子体电极提供了强大的功率输出。

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使用手册

案例

特征：
安装简便	仅需连接电源和压缩空气。
处理速度快	高效的输出功率可以实现不同的材料在20-120秒之内即可完成快速处理。
维护简单	本设备安装方便，操作简单，便于维护。
腔体门设计	采用铰链连接加视窗设计方案。
适用范围	可以适用于导体和非导体的任何材料表面。
低成本处理工艺	几乎不需要任何辅助气体即可提升材料表面的湿润性和粘合性。
处理过程监控	整个处理过程HV-X主机与PLC实时监控，所有的参数都显示在触摸屏上。
真空度	针对干不同的材料根据需求不同，等离子激活可以在0.1-3Mba之间任意设定。
辅助气体	处理过程中可以加入像氩气、氧气、氮气的辅助气体，但一般情况下不需要。