客制化真空腔体等离子设备 | VacuTEC

Tantec的VacuTEC等离子处理设备可配置一个或多个托盘，用于处理各种不同材料的零部件表面。该设备处理速度快，可使涂料、涂胶、涂漆及印刷等的粘合特性达到最佳的效果。

当真空处理仓内的压强为2至12mbar接近真空时，通过等离子电极发生的放电离子作用到物体表面，对其进行处理。处理的周期一般很短，根据产品材质不同，时间在2-120s之间。

VacuTEC操作简单、可靠性强、处理速度快。处理过程中采用的工艺气体也可以是氩气、氧气等气体，但是大多数情况下，因为采用常规的空气也可以产生强大的能量，无需使用这些工艺气体，就可以达到满意的处理效果。

Tantec采用先进的HV-X系列放电发生器，配备的变压器也是根据等离子的电极而专门设计的。

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使用手册

案例

特征：
安装及使用简单	连接电源和压缩空气装置
处理速度快	根据材料性质以及功率不同，处理时间为20-180s。
标准或客制化的处理仓	处理仓和托盘可根据不同应用进行设计。
真空度	根据应用不同，在1-12mbar条件下可产生等离子放电。
工艺气体	可使用氧气和氩气等工艺气体，但是大部分情况下是没必要的。
进程控制	等离子处理进程由HV-X系列放电发生器和PLC装置控制。所有参数在触摸板上均有显示(标准-proface触摸屏)。
节约成本	功率消耗低，无需工艺气体，成本低，是改善物体表面湿润性和粘合性的最佳解决方案。
真空压力下等离子处理	可处理导电和非导电的物体表面。
独特设计的仓门	标准的仓门可手动或自动打开。