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在零件进行生产加工前，需要清除零件表面的污染物。很多具有复杂几何形状的材料表面，都可以使用等离子体清洗。等离子体清洗系统可以有效地清洗表面，而不会对表面的其他特性产生不良影响。在过去的几十年里，等离子体清洗的效率得到了认可，因而广泛用于各种材料的预处理清洗。下文详细介绍等离子体清洗的概念及其用途。

什么是等离子体？

等离子体被认为是第四种物质状态。作为一种独特的工艺介质，它可以用于表面处理和表面改性。等离子体是由离子、电子和中性原子组成的电离气体。存在于等离子体中的电子的温度要高于中性气体，但是等离子体始终处于接近环境温度的状态，其电子密度约为 1010cm-3。等离子清洗能够通过化学反应（空气等离子体）或物理烧蚀（氩气等离子体/氩气等离子体）的过程，有效去除表面的所有有机污染物。等离子清洗系统还与表面的化学官能团（如羧基、羰基和羟基）共同作用，使大多数表面具有亲水性。表面不仅要清洁，还要具有亲水性，这就需要增加表面的润湿性，同时减少与水的接触角，从而增强生产过程中与其他表面的粘合或附着力。除此之外，等离子体清洗还可以用来去除表面的微生物污染物，很适合生物材料研究应用中的灭菌操作。

等离子体清洗的应用

等离子体清洗系统可用于各种表面的加工前清洗。它能有效去除表面的氧化物和矿物残留物。也可用于塑料和弹性体的表面处理，清洗陶瓷、玻璃表面以及金属表面。有了高效的等离子体清洗系统，就无需使用化学溶剂。等离子体清洗的一个主要优点是，整个过程容易操作，不会造成环境污染。此外，等离子体清洗系统的运营成本很低，而表面清洗质量极佳。等离子体清洗系统的另一个优点是不需要使用化学溶剂，因此无需存储设施，也无需安排处理溶剂废物。等离子体是一种成熟有效的关键表面处理方法。

什么是氧等离子体清洗？

氧等离子体清洗是指在等离子腔体内使用氧气进行等离子体清洗的工艺。氧气可以用于粘接前的清洗过程，还可以用氧气与其他气体配合来蚀刻表面。可以说，氧气是等离子体清洗中最常用的气体，因为它的用途广，成本低。利用等离子体系统中的氧源可以产生氧等离子体。凡是用于等离子体蚀刻的系统都可以使用氧气，因为氧气常用于清洗玻璃、特氟龙、塑料等非金属表面，可以增加非金属表面的润湿性。

等离子体清洗的成本

在各种类型的材料表面清洗系统中，等离子体清洗设备的成本相对较低，而且设备每年的维护费用也可以忽略不计。因此，等离子体清洗近年来大为普及。等离子体清洗是一种有效且易于使用的方法，与传统的清洗工艺相比，可以达到更好的清洗效果。凡是需要清洁、可靠的表面之处，都应该使用等离子体清洗。与传统的湿式化学清洗工艺相比，等离子体清洗简单、安全且环保，效果也要好得多。